FORNEL - Arbeitsfeld
I Nanostrukturen
Technologien, Materialien, Prozesse und Verfahren zur Abscheidung von dünnsten Schichten sowie zur lateralen Strukturierung auf Nanoebene.
Projekte:
Atomar kontrollierte Synthese von alternativen Gate-Dielektrika
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Atomar-selbstregelnde Abscheidung von Siliziumnitridschichten
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Nanoimprint-Lithographie
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Photonenaktivierte Reinigungs- und Abscheideprozesse
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80538 München