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Prof. Dr. Heiner Ryssel

 

Prof. Dr. Heiner Ryssel Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB) Schottkystraße 10 91058 Erlangen Arbeitsgebiet: CMOS-Technologie,…

 
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Prof. Dr. Lothar Ley

 

Prof. Dr. Lothar Ley Universität Erlangen-Nürnberg Lehrstuhl für Technische Physik Erwin-Rommel-Str. 1 91056 Erlangen

 
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Prof. Dr. Walter Hansch

 

Prof. Dr. Walter Hansch TU München Lehrstuhl für Technische Elektronik Theresienstr. 90 80290 München Arbeitsgebiet: Halbleiterproduktionstechnik

 
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Dr. Lothar Frey

 

Dr. Lothar Frey Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB) Schottkystraße 10 91058 Erlangen

 
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Prof. Dr. Alfred Forchel

 

Prof. Dr. Alfred Forchel Universität Würzburg Technische Physik Am Hubland 97074 Würzburg

 
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Dr. Bernd Fischer

 

Dr. Bernd Fischer Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB) Schottkystraße 10 91058 Erlangen

 
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Atomar kontrollierte Synthese von alternativen Gate-Dielektrika

 

Atomar kontrollierte Synthese von alternativen Gate-Dielektrika Die fortschreitende Reduzierung kritischer Dimensionen in den aktiven und passiven Elementen integrierter, Si-basierter Schaltungen…

 
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Atomar-selbstregelnde Abscheidung von Siliziumnitridschichten

 

Atomar-selbstregelnde Abscheidung von Siliziumnitridschichten Im Teilprojekt soll untersucht werden, inwieweit durch neue Verfahren die atomar-selbstregelnde Abscheidung von Nanometerschichten auf…

 
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Nanoimprint-Lithographie

 

Nanoimprint-Lithographie Die Strukturierung im Sub 100 nm Bereich erfordert neue Verfahren, die alternativ oder ergänzend zur klassischen optischen Lithographie eingesetzt werden können. Speziell…

 
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Photonenaktivierte Reinigungs- und Abscheideprozesse

 

Photonenaktivierte Reinigungs- und Abscheideprozesse Mit zunehmender Verkleinerung der physikalischen Dimensionen von Silizium-basierten Halbleiterbauelementen wird der Einfluss der einzelnen…

 
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