Rasante Fortschritte durch neue Hochleistungslaser

Schwerpunktthema sind in diesem Jahr, getrieben von der neuen Boombranche Photovoltaik, die ständig schnelle und hochpräzise Bearbeitungsmaschinen braucht, neue und leistungsstarke Q-Switch- und Pikosekundenlaser. Da diese aktuell einen gewaltigen Aufschwung erleben, insbesondere für die Feinstbearbeitung von dünnen Schichtstrukturen, stehen sie im Fokus der diesjährigen LEF. Die Forschung des BLZ beschäftigt sich unter anderem mit dem Erzeugen von Innenstrukturen in durchsichtigen Medien mit dem Ultrakurzpuls(UKP)-Laser.

Die zahlreichen Referenten aus Wissenschaft und vor allem Wirtschaft skizzieren die rapiden technologischen Fortschritte in vielen verschiedenen und sich ständig erweiternden Anwendungsmöglichkeiten. Diskussionen über den zukünftigen Bedarf und die an die Kurzpulslasersysteme gestellten Erwartungen der Anwender sind erwünscht.

Andere der insgesamt 18 Fachbeiträge widmen sich den neuen Entwicklungen der Laserstrahlbearbeitung von Kunststoffen und Metallen und den Anwendungen in der Systemtechnik. Dabei kommen sowohl die Hersteller von Strahlquellen und Systemtechnik als auch die Anwender der Lasertechnik zu Wort. Themen sind unter anderem das Schweißen von Flexleiterstrukturen und neue Ansätze im Automobil-Interiordesign durch UV-Laser. In der Einführung gibt Dr. Jörg Baier vom VDI einen Überblick zum Förderprogramm des BMBF und demonstriert damit auch das hohe Interesse der Bundesregierung an den optischen Technologien.

Die begleitende Industrieausstellung bietet reichlich Gelegenheit zu Gespräch, Information und Austausch unter den erwarteten 100 Teilnehmern. Hersteller und Dienstleistungsanbieter stellen ihre aktuellen Produkte und Leistungen vor.

Programm und Anmeldeformulare erhalten Interessenten beim Bayerischen Laserzentrum. Anmeldungen sind noch möglich bis zum 22. Februar 2008.